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Interdiffusion in as-deposited Ni/Ti multilayer thin films analyzed by atom probe tomography

Aboulfadl, Hisham; Seifried, Fabian; Stüber, Michael; Mücklich, Frank



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0167-577X
KITopen-ID: 1000087616
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Materials letters
Band 236
Seiten 92–95
Nachgewiesen in Web of Science
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