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High-Performance All-Printed Amorphous Oxide FETs and Logics with Electronically Compatible Electrode/Channel Interface

Sharma, Bhupendra K. 1; Stoesser, Anna 1; Mondal, Sandeep Kumar; Garlapati, Suresh Kumar 1; Fawey, Mohammed H. 1; Chakravadhanula, Venkata Sai Kiran 1; Kruk, Robert 1; Hahn, Horst 1; Dasgupta, Subho 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.8b04892
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Zitationen: 38
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Dimensions
Zitationen: 39
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Zugehörige Institution(en) am KIT Helmholtz-Institut Ulm (HIU)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 07.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000088764
HGF-Programm 43.22.02 (POF III, LK 01) Nanocatalysis
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 10
Heft 26
Seiten 22408–22418
Vorab online veröffentlicht am 12.06.2018
Nachgewiesen in Dimensions
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