Integration of thin film of metal-organic frameworks in metal-insulator-semiconductor capacitor structures
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Jahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1387-1811 KITopen-ID: 1000089301 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) |
| Erschienen in | Microporous and mesoporous materials |
| Band | 265 |
| Seiten | 185–188 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus |