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Integration of thin film of metal-organic frameworks in metal-insulator-semiconductor capacitor structures

Montañez, Liz M.; Müller, Kai; Heinke, Lars; Osten, H.Jörg



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.micromeso.2018.02.018
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Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1387-1811
KITopen-ID: 1000089301
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Microporous and mesoporous materials
Band 265
Seiten 185–188
Nachgewiesen in Web of Science
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