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Interfacial Electron Beam Lithography: Chemical Monolayer Nanopatterning via Electron-Beam-Induced Interfacial Solid-Phase Oxidation

Maoz, Rivka; Berson, Jonathan; Burshtain, Doron; Nelson, Peter; Zinger, Ariel; Bitton, Ora; Sagiv, Jacob



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1936-0851, 1936-086X
KITopen-ID: 1000089626
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01)
Erschienen in ACS nano
Band 12
Heft 10
Seiten 9680–9692
Vorab online veröffentlicht am 14.09.2018
Nachgewiesen in Web of Science
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