Interfacial Electron Beam Lithography: Chemical Monolayer Nanopatterning via Electron-Beam-Induced Interfacial Solid-Phase Oxidation
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1936-0851, 1936-086X KITopen-ID: 1000089626 |
| HGF-Programm | 43.22.03 (POF III, LK 01) Printed Materials and Systems |
| Erschienen in | ACS nano |
| Verlag | American Chemical Society (ACS) |
| Band | 12 |
| Heft | 10 |
| Seiten | 9680–9692 |
| Vorab online veröffentlicht am | 14.09.2018 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |