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Interfacial Electron Beam Lithography: Chemical Monolayer Nanopatterning via Electron-Beam-Induced Interfacial Solid-Phase Oxidation

Maoz, Rivka; Berson, Jonathan; Burshtain, Doron; Nelson, Peter; Zinger, Ariel; Bitton, Ora; Sagiv, Jacob



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsnano.8b03416
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Zitationen: 2
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Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1936-0851, 1936-086X
KITopen-ID: 1000089626
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01) Printed Materials and Systems
Erschienen in ACS nano
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 12
Heft 10
Seiten 9680–9692
Vorab online veröffentlicht am 14.09.2018
Nachgewiesen in Scopus
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