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Niobium as Alternative Material for Refractory and Active Plasmonics

Bagheri, Shahin; Strohfeldt, Nikolai; Ubl, Monika; Berrier, Audrey; Merker, Michael 1; Richter, Gunther; Siegel, Michael 1; Giessen, Harald
1 Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsphotonics.8b00530
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Zitationen: 28
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Zitationen: 28
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 08.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2330-4022, 2330-4022
KITopen-ID: 1000090130
Erschienen in ACS photonics
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 5
Heft 8
Seiten 3298–3304
Vorab online veröffentlicht am 15.06.2018
Nachgewiesen in Dimensions
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