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Molecular Photoswitches for STED-inspired Laser Lithography

Müller, Patrick

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000090452
Veröffentlicht am 04.02.2019
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-904521
KITopen-ID: 1000090452
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Verlag KIT, Karlsruhe
Umfang VII, 184 S.
Abschlussart Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Nanotechnologie (INT)
Prüfungsdatum 18.01.2019
Referent/Betreuer Prof. M. Wegener
Schlagworte laser lithography, direct laser writing, two-photon polymerization, STED, super-resolution, sub-diffraction, surface functionalization, spirothiopyran, photoenol, photoswitch, photoresist
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