Molecular Photoswitches for STED-inspired Laser Lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Physik (APH) Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | urn:nbn:de:swb:90-904521 KITopen-ID: 1000090452 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Verlag | Karlsruher Institut für Technologie (KIT) |
| Umfang | VII, 184 S. |
| Art der Arbeit | Dissertation |
| Fakultät | Fakultät für Physik (PHYSIK) |
| Institut | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Prüfungsdatum | 18.01.2019 |
| Schlagwörter | laser lithography, direct laser writing, two-photon polymerization, STED, super-resolution, sub-diffraction, surface functionalization, spirothiopyran, photoenol, photoswitch, photoresist |
| Referent/Betreuer | Wegener, M. |