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Molecular Photoswitches for STED-inspired Laser Lithography

Müller, Patrick


Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000090452
Veröffentlicht am 04.02.2019
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-904521
KITopen-ID: 1000090452
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Verlag Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
Umfang VII, 184 S.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Nanotechnologie (INT)
Prüfungsdatum 18.01.2019
Schlagwörter laser lithography, direct laser writing, two-photon polymerization, STED, super-resolution, sub-diffraction, surface functionalization, spirothiopyran, photoenol, photoswitch, photoresist
Referent/Betreuer Wegener, M.
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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