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Influence of silicon doping type on the adhesion of seedless electrodeposited copper layers

Cerqueira Lima, Frederico Goncalves de; Mescheder, Ulrich; Katona, Gábor L.; Leiste, Harald 1; Özel, Emre; Müller, Claas; Reinecke, Holger
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.surfcoat.2018.03.044
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Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 09.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0257-8972
KITopen-ID: 1000091424
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in Surface and coatings technology
Verlag Elsevier
Band 349
Seiten 208–216
Schlagwörter 2016-017-015749; 2017-017-017789 TFC XPS
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