Structural Properties of Al–O Monolayers in SiO2 on Silicon and the Maximization of Their Negative Fixed Charge Density

Hiller, Daniel; Göttlicher, Jörg; Steininger, Ralph; Huthwelker, Thomas; Julin, Jaakko; Munnik, Frans; Wahl, Michael; Bock, Wolfgang; Schoenaers, Ben; Stesmans, Andre; König, Dirk

doi:10.1021/acsami.8b06098

Structural Properties of Al–O Monolayers in SiO2 on Silicon and the Maximization of Their Negative Fixed Charge Density

Hiller, Daniel; Göttlicher, Jörg ¹; Steininger, Ralph ¹; Huthwelker, Thomas; Julin, Jaakko; Munnik, Frans; Wahl, Michael; Bock, Wolfgang; Schoenaers, Ben; Stesmans, Andre; König, Dirk
¹ Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr	09.2018
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 1944-8244, 1944-8252 KITopen-ID: 1000091730
HGF-Programm	56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in	ACS applied materials & interfaces
Verlag	American Chemical Society (ACS)
Band	10
Heft	36
Seiten	30495–30505
Vorab online veröffentlicht am	15.08.2018
Nachgewiesen in	Dimensions Web of Science Scopus OpenAlex
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