Structural Properties of Al–O Monolayers in SiO2 on Silicon and the Maximization of Their Negative Fixed Charge Density
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 09.2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1944-8244, 1944-8252 KITopen-ID: 1000091730 |
| HGF-Programm | 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol. |
| Erschienen in | ACS applied materials & interfaces |
| Verlag | American Chemical Society (ACS) |
| Band | 10 |
| Heft | 36 |
| Seiten | 30495–30505 |
| Vorab online veröffentlicht am | 15.08.2018 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |