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Structural Properties of Al–O Monolayers in SiO2 on Silicon and the Maximization of Their Negative Fixed Charge Density

Hiller, Daniel; Göttlicher, Jörg; Steininger, Ralph; Huthwelker, Thomas; Julin, Jaakko; Munnik, Frans; Wahl, Michael; Bock, Wolfgang; Schoenaers, Ben; Stesmans, Andre; König, Dirk



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.8b06098
Scopus
Zitationen: 2
Web of Science
Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000091730
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01)
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Band 10
Heft 36
Seiten 30495–30505
Vorab online veröffentlicht am 15.08.2018
Nachgewiesen in Web of Science
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