Investigation of micro-stress at Si/SiO₂ interface using infrared spectroscopy
Hafshejani, Tahereh Mohammadi; Königer, Franz; Wohlgemuth, Jonas; Fu, Zhihua; König-Edel, Meike
; Schwotzer, Matthias
; Thissen, Peter
; Schwotzer, Matthias
; Thissen, Peter| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG) |
| Publikationstyp | Vortrag |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 1000092452 |
| HGF-Programm | 34.15.01 (POF III, LK 01) Mineralische Konstruktionsmaterialien |
| Veranstaltung | DPG-Frühjahrstagung der Sektion Kondensierte Materie (SKM), Fachverband Oberflächenphysik (2019), Regensburg, Deutschland, 31.03.2019 – 05.04.2019 |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.54(2019) O 88.11 |