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Investigation of micro-stress at Si/SiO₂ interface using infrared spectroscopy

Hafshejani, Tahereh Mohammadi; Königer, Franz; Wohlgemuth, Jonas; Fu, Zhihua; König-Edel, Meike; Schwotzer, Matthias; Thissen, Peter



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seit 23.03.2019
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000092452
Veranstaltung DPG-Frühjahrstagung der Sektion Kondensierte Materie (SKM), Fachverband Oberflächenphysik (2019), Regensburg, Deutschland, 31.03.2019 – 05.04.2019
Bemerkung zur Veröffentlichung Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft, R.6, B.54(2019) O 88.11
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