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The effect of a lithium niobate heating on the etching rate in SF₆ ICP plasma

Osipov, A. A.; Alexandrov, S. E.; Iankevich, G. A.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/2053-1591/aafa9d
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Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2053-1591
KITopen-ID: 1000092759
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Functionality by Design
Erschienen in Materials Research Express
Band 6
Heft 4
Seiten Article: 046306
Nachgewiesen in Web of Science
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