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Electron Beam Effects on Oxide Thin Films—Structure and Electrical Property Correlations

Neelisetty, Krishna Kanth 1; Mu, Xiaoke 1; Gutsch, Sebastian; Vahl, Alexander; Molinari, Alan 1; Seggern, Falk von 2; Hansen, Mirko; Scherer, Torsten 3; Zacharias, Margit; Kienle, Lorenz; Chakravadhanula, V. S. Kiran 4; Kübel, Christian ORCID iD icon 1,4
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 Helmholtz-Institut Ulm (HIU), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1017/S1431927619000175
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Web of Science
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Zitationen: 29
Zugehörige Institution(en) am KIT Helmholtz-Institut Ulm (HIU)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1431-9276, 1435-8115
KITopen-ID: 1000093190
HGF-Programm 43.22.02 (POF III, LK 01) Nanocatalysis
Erschienen in Microscopy and microanalysis
Verlag Cambridge University Press (CUP)
Seiten 1–9
Vorab online veröffentlicht am 04.03.2019
Schlagwörter 2015-014-008134 2015-014-006790 TEM FIB
Nachgewiesen in Dimensions
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