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High-Entropy Oxides: Fundamental Aspects and Electrochemical Properties

Sarkar, Abhishek 1; Wang, Qingsong 1; Schiele, Alexander 1; Chellali, Mohammed Reda 1; Bhattacharya, Subramshu S.; Wang, Di 1,2; Brezesinski, Torsten 1; Hahn, Horst 1; Velasco, Leonardo 1; Breitung, Ben 1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000093195
Veröffentlicht am 03.04.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adma.201806236
Scopus
Zitationen: 211
Web of Science
Zitationen: 207
Dimensions
Zitationen: 212
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Helmholtz-Institut Ulm (HIU)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0935-9648
urn:nbn:de:swb:90-931955
KITopen-ID: 1000093195
HGF-Programm 37.01.01 (POF III, LK 01) Fundamentals and Materials
Erschienen in Advanced materials
Verlag John Wiley and Sons
Seiten 1806236
Vorab online veröffentlicht am 06.03.2019
Schlagwörter 2018-021-024049 2017-018-018130 2015-015-009469 TEM
Nachgewiesen in Web of Science
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