KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

High-Entropy Oxides: Fundamental Aspects and Electrochemical Properties

Sarkar, Abhishek; Wang, Qingsong; Schiele, Alexander; Chellali, Mohammed Reda; Bhattacharya, Subramshu S.; Wang, Di; Brezesinski, Torsten; Hahn, Horst; Velasco, Leonardo; Breitung, Ben

Open Access Logo


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000093195
Veröffentlicht am 03.04.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adma.201806236
Scopus
Zitationen: 65
Web of Science
Zitationen: 68
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Helmholtz-Institut Ulm (HIU)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0935-9648
urn:nbn:de:swb:90-931955
KITopen-ID: 1000093195
HGF-Programm 37.01.01 (POF III, LK 01) Fundamentals and Materials
Erschienen in Advanced materials
Verlag Wiley
Seiten 1806236
Vorab online veröffentlicht am 06.03.2019
Schlagwörter 2018-021-024049 2017-018-018130 2015-015-009469 TEM
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page