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High-Entropy Oxides: Fundamental Aspects and Electrochemical Properties

Sarkar, Abhishek; Wang, Qingsong; Schiele, Alexander; Chellali, Mohammed Reda; Bhattacharya, Subramshu S.; Wang, Di; Brezesinski, Torsten; Hahn, Horst; Velasco, Leonardo; Breitung, Ben

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Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000093195
Veröffentlicht am 03.04.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adma.201806236
Scopus
Zitationen: 1
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Helmholtz-Institut Ulm (HIU)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0935-9648
urn:nbn:de:swb:90-931955
KITopen-ID: 1000093195
HGF-Programm 37.01.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Advanced materials
Seiten 1806236
Vorab online veröffentlicht am 06.03.2019
Nachgewiesen in Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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