High-Entropy Oxides: Fundamental Aspects and Electrochemical Properties
Sarkar, Abhishek 1; Wang, Qingsong 1; Schiele, Alexander 1; Chellali, Mohammed Reda 1; Bhattacharya, Subramshu S.; Wang, Di
1,2; Brezesinski, Torsten
1; Hahn, Horst 1; Velasco, Leonardo 1; Breitung, Ben
1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Brezesinski, Torsten
1; Hahn, Horst 1; Velasco, Leonardo 1; Breitung, Ben
1,21 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Helmholtz-Institut Ulm (HIU) Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0935-9648 urn:nbn:de:swb:90-931955 KITopen-ID: 1000093195 |
| HGF-Programm | 37.01.01 (POF III, LK 01) Fundamentals and Materials |
| Erschienen in | Advanced materials |
| Verlag | John Wiley and Sons |
| Seiten | 1806236 |
| Vorab online veröffentlicht am | 06.03.2019 |
| Schlagwörter | 2018-021-024049 2017-018-018130 2015-015-009469 TEM |
| Nachgewiesen in | Dimensions OpenAlex Scopus Web of Science |
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