High‐Performance Ferroelectric–Dielectric Multilayered Thin Films for Energy Storage Capacitors
Silva, José P. B.; Silva, João M. B.; Oliveira, Marcelo J. S.; Weingärtner, Tobias
1; Sekhar, Koppole C.; Pereira, Mário; Gomes, Maria J. M.
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Sekhar, Koppole C.; Pereira, Mário; Gomes, Maria J. M.1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 02.2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1616-301X, 1616-3028 KITopen-ID: 1000093770 |
| HGF-Programm | 37.01.02 (POF III, LK 01) Components and Cells |
| Erschienen in | Advanced functional materials |
| Verlag | Wiley-VCH Verlag |
| Band | 29 |
| Heft | 6 |
| Seiten | Article: 1807196 |
| Vorab online veröffentlicht am | 17.12.2018 |
| Schlagwörter | 2017-017-017030 AES |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |