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High‐Performance Ferroelectric–Dielectric Multilayered Thin Films for Energy Storage Capacitors

Silva, José P. B.; Silva, João M. B.; Oliveira, Marcelo J. S.; Weingärtner, Tobias; Sekhar, Koppole C.; Pereira, Mário; Gomes, Maria J. M.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201807196
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Zitationen: 27
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Zitationen: 30
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 02.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X, 1616-3028
KITopen-ID: 1000093770
HGF-Programm 37.01.02 (POF III, LK 01) Components and Cells
Erschienen in Advanced functional materials
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 29
Heft 6
Seiten Article: 1807196
Vorab online veröffentlicht am 17.12.2018
Schlagwörter 2017-017-017030 AES
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