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Epitaxial strain adaptation in chemically disordered FeRh thin films

Witte, Ralf; Kruk, Robert; Wang, Di; Schlabach, Sabine; Brand, Richard A.; Gruner, Markus E.; Wende, Heiko; Hahn, Horst



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.99.134109
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffkunde (IAM-WK)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2469-9950, 2469-9969
KITopen-ID: 1000094054
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Physical review / B
Band 99
Heft 13
Seiten Article: 134109
Vorab online veröffentlicht am 26.04.2019
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