Epitaxial strain adaptation in chemically disordered FeRh thin films
Witte, Ralf 1; Kruk, Robert 1; Wang, Di
1,2; Schlabach, Sabine
2; Brand, Richard A. 1; Gruner, Markus E.; Wende, Heiko; Hahn, Horst 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Schlabach, Sabine
2; Brand, Richard A. 1; Gruner, Markus E.; Wende, Heiko; Hahn, Horst 11 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) Institut für Angewandte Materialien – Werkstoffkunde (IAM-WK) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2469-9950, 2469-9969 KITopen-ID: 1000094054 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erschienen in | Physical review / B |
| Verlag | American Physical Society (APS) |
| Band | 99 |
| Heft | 13 |
| Seiten | Article: 134109 |
| Vorab online veröffentlicht am | 26.04.2019 |
| Schlagwörter | 2019-022-026569 2019-022-026569 2018-020-022249 TEM FIB |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus Dimensions OpenAlex |
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