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A comparison of customized Hartmann and newly introduced inverted Hartmann masks for single-shot phase-contrast X-ray imaging

Zakharova, Margarita ORCID iD icon 1; Reich, Stefan 2; Mikhaylov, Andrey ORCID iD icon 1; Vlnieska, Vitor 1; Zuber, Marcus ORCID iD icon 2,3; Engelhardt, Sabine 2,3; Baumbach, Tilo 2,3; Kunka, Danays 1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/12.2520723
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Zitationen: 4
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Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp Buchaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 04.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5106-2731-4
ISSN: 0277-786X
KITopen-ID: 1000094549
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Weitere HGF-Programme 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in EUV and X-ray Optics: Synergy between Laboratory and Space VI. Ed.: R. Hudec
Verlag Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE)
Seiten Article no: 110320U
Serie Proceedings of SPIE ; 11032
Bemerkung zur Veröffentlichung SPIE OPTICS + OPTOELECTRONICS, Prague, CZ, April, 1-4 April 2019
Nachgewiesen in Scopus
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