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A comparison of customized Hartmann and newly introduced inverted Hartmann masks for single-shot phase-contrast X-ray imaging

Zakharova, Margarita; Reich, Stefan; Mikhaylov, Andrey; Vlnieska, Vitor; Zuber, Marcus; Engelhardt, Sabine; Baumbach, Tilo; Kunka, Danays



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/12.2520723
Dimensions
Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Buchaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 04.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5106-2731-4
ISSN: 0277-786X
KITopen-ID: 1000094549
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Weitere HGF-Programme 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in EUV and X-ray Optics: Synergy between Laboratory and Space VI. Ed.: R. Hudec
Verlag Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE)
Seiten Article no: 110320U
Serie Proceedings of SPIE ; 11032
Bemerkung zur Veröffentlichung SPIE OPTICS + OPTOELECTRONICS, Prague, CZ, April, 1-4 April 2019
Nachgewiesen in Dimensions
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