Low-loss and robust DWDM Echelle grating (de-)multiplexers in SOI technology
Zhang, Yunlong 1; Schneider, Marc
1; Karnick, Djorn 1; Eisenblätter, Lars 1; Kühner, Thomas 1; Weber, Marc 1; Digonnet, Michel J. [Hrsg.]; Jiang, Shibin [Hrsg.]
1 Institut für Prozessdatenverarbeitung und Elektronik (IPE), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Karnick, Djorn 1; Eisenblätter, Lars 1; Kühner, Thomas 1; Weber, Marc 1; Digonnet, Michel J. [Hrsg.]; Jiang, Shibin [Hrsg.]1 Institut für Prozessdatenverarbeitung und Elektronik (IPE), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Prozessdatenverarbeitung und Elektronik (IPE) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsmonat/-jahr | 02.2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-5106-2471-9 ISSN: 0277-786X KITopen-ID: 1000095421 |
| HGF-Programm | 54.02.02 (POF III, LK 01) Ultraschnelle Datenauswertung |
| Erschienen in | Optical Components and Materials XVI. Ed.: S. Jiang |
| Veranstaltung | SPIE Photonics West OPTO (SPIE OPTO 2019), San Francisco, CA, USA, 02.02.2019 – 07.02.2019 |
| Verlag | Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE) |
| Seiten | 18 |
| Serie | Proceedings of SPIE ; 10914 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus |