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Optimization of Al/AlO$_{X}$/Al-layer systems for Josephson junctions from a microstructure point of view

Fritz, Stefan 1; Radtke, Lucas 2; Schneider, Reinhard 1; Weides, Martin P. 2; Gerthsen, Dagmar 1
1 Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Physikalisches Institut (PHI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.5089871
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Zitationen: 23
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Zitationen: 25
Zugehörige Institution(en) am KIT Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Physikalisches Institut (PHI)
Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550, 1520-8850, 2163-5102
KITopen-ID: 1000095683
Erschienen in Journal of applied physics
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 125
Heft 16
Seiten Art.-Nr.: 165301
Externe Relationen Abstract/Volltext
Nachgewiesen in Web of Science
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