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Carbon films deposited by mixed-mode high power impulse magnetron sputtering for high wear resistance: The role of argon incorporation

Akhavan, B.; Ganesan, R.; Stueber, M. 1; Ulrich, S. 1; McKenzie, D. R.; Bilek, M. M. M.
1 Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2019.06.003
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Zitationen: 21
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen-ID: 1000096251
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01) Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Erschienen in Thin solid films
Verlag Elsevier
Band 688
Seiten Article: 137353
Nachgewiesen in Web of Science
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