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Static chiral Willis continuum mechanics for three-dimensional chiral mechanical metamaterials

Kadic, Muamer; Diatta, André; Frenzel, Tobias; Guenneau, Sebastien; Wegener, Martin


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.99.214101
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Zitationen: 16
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Zitationen: 16
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2469-9950, 2469-9969
KITopen-ID: 1000096431
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Physical review / B
Verlag American Physical Society (APS)
Band 99
Heft 21
Seiten Art.Nr. 214101
Vorab online veröffentlicht am 04.06.2019
Nachgewiesen in Dimensions
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