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Microstructure of Al-containing magnetron sputtered TiB₂ thin films

Stüber, M.; Riedl, H.; Wojcik, T.; Ulrich, S.; Leiste, H.; Mayrhofer, P. H.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2019.06.011
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen-ID: 1000096511
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01) Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Erschienen in Thin solid films
Verlag Elsevier
Band 688
Seiten Article: 137361
Vorab online veröffentlicht am 10.06.2019
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