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Microscopic origin of highly enhanced current carrying capabilities of thin NdFeAs(O,F) films

Kauffmann-Weiss, Sandra 1; Iida, Kazumasa; Tarantini, Chiara; Boll, Torben ORCID iD icon 2,3; Schneider, Reinhard 4; Ohmura, Taito; Matsumoto, Takuya; Hatano, Takafumi; Langer, Marco 1; Meyer, Sven 1; Jaroszynski, Jan; Gerthsen, Dagmar 4; Ikuta, Hiroshi; Holzapfel, Bernhard ORCID iD icon 1; Hänisch, Jens ORCID iD icon 1
1 Institut für Technische Physik (ITEP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Angewandte Materialien – Werkstoffkunde (IAM-WK), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000097017
Veröffentlicht am 01.08.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/C9NA00147F
Scopus
Zitationen: 8
Dimensions
Zitationen: 11
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Physik (ITEP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Laboratorium für Elektronenmikroskopie (LEM)
Universität Karlsruhe (TH) – Zentrale Einrichtungen (Zentrale Einrichtungen)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2516-0230
KITopen-ID: 1000097017
HGF-Programm 37.06.02 (POF III, LK 01) New Power Network Technology
Erschienen in Nanoscale Advances
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Seiten 1-13
Vorab online veröffentlicht am 05.06.2019
Nachgewiesen in Scopus
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