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Optimal measurements for quantum fidelity between Gaussian states and its relevance to quantum metrology

Oh, C.; Lee, Changhyoup; Banchi, L.; Lee, S.-Y.; Rockstuhl, Carsten; Jeong, H.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevA.100.012323
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Zitationen: 4
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Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0556-2791, 1050-2947, 1094-1622, 1538-4446, 2469-9926, 2469-9934
KITopen-ID: 1000097255
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Physical review / A
Verlag American Physical Society (APS)
Band 100
Seiten Art.-Nr.: 012323
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