Optimal measurements for quantum fidelity between Gaussian states and its relevance to quantum metrology
Oh, C.; Lee, Changhyoup 1; Banchi, L.; Lee, S.-Y.; Rockstuhl, Carsten
1,2; Jeong, H.
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Jeong, H.1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0556-2791, 1050-2947, 1094-1622, 1538-4446, 2469-9926, 2469-9934 KITopen-ID: 1000097255 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Physical review / A |
| Verlag | American Physical Society (APS) |
| Band | 100 |
| Seiten | Art.-Nr.: 012323 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |