Perturbing beyond the shallow amplitude regime: Green’s function scattering formalism with Bloch modes
Abass, A. 1; Martins, A.; Nanz, S. 2; Borges, B.-H. V.; Martins, E. R.; Rockstuhl, C.
1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,21 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0740-3224, 1520-8540 KITopen-ID: 1000098416 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Journal of the Optical Society of America / B |
| Verlag | Optica Publishing Group (OSA) |
| Band | 36 |
| Heft | 8 |
| Seiten | F89-F98 |
| Externe Relationen | Abstract/Volltext |
| Nachgewiesen in | Web of Science OpenAlex Dimensions Scopus |
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