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On the Schwarzschild Effect in 3D Two-Photon Laser Lithography

Yang, Ling; Münchinger, Alexander 1; Kadic, Muamer 2; Hahn, Vincent 1; Mayer, Frederik 1; Blasco, Eva 3; Barner-Kowollik, Christopher 3; Wegener, Martin 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adom.201901040
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Zitationen: 30
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 11.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2195-1071
KITopen-ID: 1000098419
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced optical materials
Verlag John Wiley and Sons
Band 7
Heft 22
Seiten Art.-Nr.: 1901040
Vorab online veröffentlicht am 27.08.2019
Nachgewiesen in Dimensions
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