KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

On the Schwarzschild Effect in 3D Two-Photon Laser Lithography [in press]

Yang, Ling; Münchinger, Alexander; Kadic, Muamer; Hahn, Vincent; Mayer, Frederik; Blasco, Eva; Barner-Kowollik, Christopher; Wegener, Martin



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2195-1071
KITopen-ID: 1000098419
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Advanced optical materials
Seiten Art.-Nr.: 1901040
Nachgewiesen in Scopus
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page