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On the Schwarzschild Effect in 3D Two-Photon Laser Lithography

Yang, Ling; Münchinger, Alexander; Kadic, Muamer; Hahn, Vincent; Mayer, Frederik; Blasco, Eva; Barner-Kowollik, Christopher; Wegener, Martin



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adom.201901040
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Zitationen: 13
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 11.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2195-1071
KITopen-ID: 1000098419
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced optical materials
Verlag John Wiley and Sons
Band 7
Heft 22
Seiten Art.-Nr.: 1901040
Vorab online veröffentlicht am 27.08.2019
Nachgewiesen in Web of Science
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