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On the Schwarzschild Effect in 3D Two-Photon Laser Lithography

Yang, Ling; Münchinger, Alexander 1; Kadic, Muamer 2; Hahn, Vincent 1; Mayer, Frederik 1; Blasco, Eva 3; Barner-Kowollik, Christopher 3; Wegener, Martin 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 11.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2195-1071
KITopen-ID: 1000098419
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced optical materials
Verlag John Wiley and Sons
Band 7
Heft 22
Seiten Art.-Nr.: 1901040
Vorab online veröffentlicht am 27.08.2019
Nachgewiesen in Web of Science
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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adom.201901040
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Web of Science
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BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Seitenaufrufe: 150
seit 06.10.2019
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