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Calculating the Nominal Values of the Matching Device Installation of Plasma Chemical Etching

Endiiarova, E.V.; Ruby, Singh



Originalveröffentlichung
DOI: 10.4028/www.scientific.net/kem.822.594
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1662-9795
KITopen-ID: 1000098834
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Key engineering materials
Band 822
Seiten 594–600
Vorab online veröffentlicht am 24.09.2019
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