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Registration of an ICP Plasma CV Dependences under Various Pressures in the Plasma-Chemical Deep Etching System

Iankevich, Gleb A.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.4028/www.scientific.net/kem.822.587
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1662-9795
KITopen-ID: 1000098835
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Key engineering materials
Band 822
Seiten 587–593
Vorab online veröffentlicht am 24.09.2019
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