Registration of an ICP Plasma CV Dependences under Various Pressures in the Plasma-Chemical Deep Etching System
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1662-9795 KITopen-ID: 1000098835 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erschienen in | Key engineering materials |
| Verlag | Trans Tech Publications |
| Band | 822 |
| Seiten | 587–593 |
| Vorab online veröffentlicht am | 24.09.2019 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions |