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Interfacial Silicide Formation and Stress Evolution during Sputter Deposition of Ultrathin Pd Layers on a-Si

Krause, Bärbel; Abadias, Gregory; Furgeaud, Clarisse; Michel, Anny; Resta, Andrea; Coati, Alessandro; Garreau, Yves; Vlad, Alina; Hauschild, Dirk; Baumbach, Tilo



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.9b11492
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000098863
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01)
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Band 11
Heft 42
Seiten 39315-39323
Vorab online veröffentlicht am 08.10.2019
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