Interfacial Silicide Formation and Stress Evolution during Sputter Deposition of Ultrathin Pd Layers on a-Si
Krause, Bärbel
1; Abadias, Gregory; Furgeaud, Clarisse; Michel, Anny; Resta, Andrea; Coati, Alessandro; Garreau, Yves; Vlad, Alina; Hauschild, Dirk 2; Baumbach, Tilo 3
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Abadias, Gregory; Furgeaud, Clarisse; Michel, Anny; Resta, Andrea; Coati, Alessandro; Garreau, Yves; Vlad, Alina; Hauschild, Dirk 2; Baumbach, Tilo 31 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS) Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP) Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1944-8244, 1944-8252 KITopen-ID: 1000098863 |
| HGF-Programm | 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol. |
| Erschienen in | ACS applied materials & interfaces |
| Verlag | American Chemical Society (ACS) |
| Band | 11 |
| Heft | 42 |
| Seiten | 39315-39323 |
| Vorab online veröffentlicht am | 08.10.2019 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |