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Interfacial Silicide Formation and Stress Evolution during Sputter Deposition of Ultrathin Pd Layers on a-Si

Krause, Bärbel ORCID iD icon 1; Abadias, Gregory; Furgeaud, Clarisse; Michel, Anny; Resta, Andrea; Coati, Alessandro; Garreau, Yves; Vlad, Alina; Hauschild, Dirk 2; Baumbach, Tilo 3
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.9b11492
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Zitationen: 3
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Zitationen: 4
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Zitationen: 6
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000098863
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 11
Heft 42
Seiten 39315-39323
Vorab online veröffentlicht am 08.10.2019
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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