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Chemical model of Ar/O₂ microwave plasma with nanoparticle formation from metal precursors

Mätzing, H.; Baumann, W.; Paur, H.R.; Seifert, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT ITC – Bereich Thermische Abfallbehandlung (ITC-TAB)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000098981
HGF-Programm 34.01.03 (POF II, LK 01)
Erschienen in Proceedings of the 19th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC), Bochum, July 26-31, 2009
Veranstaltung 19th International Symposium on Plasma Chemistry (ISPC 2009), Bochum, Deutschland, 26.07.2009 – 31.07.2009
Externe Relationen Abstract/Volltext
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