Merging Top‐Down and Bottom‐Up Approaches to Fabricate Artificial Photonic Nanomaterials with a Deterministic Electric and Magnetic Response
Dietrich, Kay; Zilk, Matthias; Steglich, Martin; Siefke, Thomas; Hübner, Uwe; Pertsch, Thomas; Rockstuhl, Carsten
1,2; Tünnermann, Andreas; Kley, Ernst-Bernhard
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Tünnermann, Andreas; Kley, Ernst-Bernhard1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsdatum | 17.01.2020 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1616-301X, 1616-3028 KITopen-ID: 1000100199 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Advanced functional materials |
| Verlag | Wiley-VCH Verlag |
| Band | 30 |
| Heft | 3 |
| Seiten | Article no: 1905722 |
| Vorab online veröffentlicht am | 12.11.2019 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Dimensions Scopus |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |