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Merging Top‐Down and Bottom‐Up Approaches to Fabricate Artificial Photonic Nanomaterials with a Deterministic Electric and Magnetic Response

Dietrich, Kay; Zilk, Matthias; Steglich, Martin; Siefke, Thomas; Hübner, Uwe; Pertsch, Thomas; Rockstuhl, Carsten; Tünnermann, Andreas; Kley, Ernst‐Bernhard

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Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000100199
Veröffentlicht am 22.11.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201905722
Scopus
Zitationen: 1
Web of Science
Zitationen: 3
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X, 1616-3028
KITopen-ID: 1000100199
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced functional materials
Seiten Article no: 1905722
Vorab online veröffentlicht am 12.11.2019
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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