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Merging Top‐Down and Bottom‐Up Approaches to Fabricate Artificial Photonic Nanomaterials with a Deterministic Electric and Magnetic Response

Dietrich, Kay; Zilk, Matthias; Steglich, Martin; Siefke, Thomas; Hübner, Uwe; Pertsch, Thomas; Rockstuhl, Carsten 1,2; Tünnermann, Andreas; Kley, Ernst-Bernhard
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000100199
Veröffentlicht am 22.11.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201905722
Scopus
Zitationen: 7
Web of Science
Dimensions
Zitationen: 6
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 17.01.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X, 1616-3028
KITopen-ID: 1000100199
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced functional materials
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 30
Heft 3
Seiten Article no: 1905722
Vorab online veröffentlicht am 12.11.2019
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
Scopus
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