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Preparation and characterization of rhombohedral metal-oxide thin films on c-plane α-Al$_{2}$2O$_{3}$ substrates

Gao, Yin

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000100318
Veröffentlicht am 02.12.2019
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000100318
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01) Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Verlag Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
Umfang XXX, 209 S.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Prüfungsdatum 29.11.2019
Referent/Betreuer apl. Prof. S. Ulrich
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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