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Preparation and characterization of rhombohedral metal-oxide thin films on c-plane α-Al$_{2}$2O$_{3}$ substrates

Gao, Yin

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000100318
Veröffentlicht am 02.12.2019
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Hochschulschrift
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000100318
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01)
Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Verlag Karlsruhe
Umfang XXX, 209 S.
Art der Arbeit Dissertation
Fakultät Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Prüfungsdatum 29.11.2019
Referent/Betreuer apl. Prof. S. Ulrich
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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