| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsdatum | 01.11.2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2073-8994 KITopen-ID: 1000100832 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Symmetry |
| Verlag | MDPI |
| Band | 11 |
| Heft | 11 |
| Seiten | Article No.1427 |
| Schlagwörter | electromagnetic helicity; conformal symmetry |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus OpenAlex Dimensions |