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Variations in the Chemical and Electronic Impact of Post-Deposition Treatments on Cu(In,Ga)(S,Se)$_{2}$ Absorbers

Mezher, M.; Mansfield, L. M.; Horsley, K.; Yang, W.; Blum, M.; Weinhardt, Lothar 1,2; Ramanathan, K.; Heske, Clemens 2
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsaem.9b01565
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2574-0962
KITopen-ID: 1000104756
HGF-Programm 56.03.10 (POF III, LK 01) Material a. Processes f. Energy Technol.
Erschienen in ACS applied energy materials
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 2
Heft 12
Seiten 8641-8648
Nachgewiesen in Dimensions
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