MoS2: Thin Films for Photo-Voltaic Applications
Ramos, Manuel; Nogan, John; Ortíz-Díaz, Manuela; L Enriquez-Carrejo, José; A Rodriguez-González, Claudia; Mireles-Jr-Garcia, José; Carlos Ambrosio-Lazáro, Roberto; Ornelas, Carlos; Hurtado-Macias, Abel; Boll, Torben
; Chassaing, Delphine; Heilmaier, Martin
; Chassaing, Delphine; Heilmaier, Martin
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) Institut für Angewandte Materialien – Werkstoffkunde (IAM-WK) |
| Publikationstyp | Buchaufsatz |
| Publikationsjahr | 2019 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-83962-263-2 KITopen-ID: 1000105513 |
| HGF-Programm | 49.02.08 (POF III, LK 02) Atom probe tomography |
| Erschienen in | 2D Materials. Ed.: C. Wongchoosuk |
| Verlag | IntechOpen |
| Vorab online veröffentlicht am | 09.10.2019 |
| Schlagwörter | 2018-020-022609 APT FIB |
| Nachgewiesen in | Dimensions |