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MoS2: Thin Films for Photo-Voltaic Applications

Ramos, Manuel; Nogan, John; Ortíz-Díaz, Manuela; L Enriquez-Carrejo, José; A Rodriguez-González, Claudia; Mireles-Jr-Garcia, José; Carlos Ambrosio-Lazáro, Roberto; Ornelas, Carlos; Hurtado-Macias, Abel; Boll, Torben; Chassaing, Delphine; Heilmaier, Martin

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.5772/intechopen.83512
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffkunde (IAM-WK)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 2019
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-83962-263-2
KITopen-ID: 1000105513
HGF-Programm 49.02.08 (POF III, LK 02)
Erschienen in 2D Materials. Ed.: C. Wongchoosuk
Verlag IntechOpen, London
Vorab online veröffentlicht am 09.10.2019
Schlagworte 2018-020-022609 APT FIB
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