Liquid-Phase Quasi-Epitaxial Growth of Highly Stable, Monolithic UiO-66-NH₂ MOF thin Films on Solid Substrates
Abstract:
High quality, monolithic UiO‐66‐NH2 thin films on diverse solid substrates have been prepared via a low temperature liquid phase epitaxy method. The achievement of continuous films with low defect densities and great stability against high temperatures and hot water is proven, clearly outperforming other reported types of MOF thin films.
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG) Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2020 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2191-1355, 2191-1363 KITopen-ID: 1000105861 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erschienen in | ChemistryOpen |
| Verlag | Wiley-VCH Verlag |
| Band | 9 |
| Heft | 5 |
| Seiten | 524-527 |
| Bemerkung zur Veröffentlichung | Gefördert durch den KIT-Publikationsfonds |
| Vorab online veröffentlicht am | 06.02.2020 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus Web of Science |