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Microcharacterization of Interface Oxide Layer on Laser-Structured Silicon Surfaces of Plated Ni–Cu Solar Cells

Büchler, Andreas; Grübel, Benjamin; Arya, Varun; Weingärtner, Tobias 1; Hähnel, Angelika 1; Naumann, Volker; Bartsch, Jonas; Glatthaar, Markus; Kluska, Sven
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/JPHOTOV.2019.2938306
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Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 11.2019
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2156-3381, 2156-3403
KITopen-ID: 1000118427
HGF-Programm 49.02.02 (POF III, LK 02) AES
Erschienen in IEEE journal of photovoltaics
Verlag IEEE Electron Devices Society
Band 9
Heft 6
Seiten 1532–1540
Vorab online veröffentlicht am 18.09.2019
Schlagwörter 2017-017-017509 AES
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