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Monocrystalline Quartz ICP Etching: Road to High-Temperature Dry Etching

Osipov, Artem A.; Iankevich, Gleb A.; Alexandrov, Sergey E.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s11090-019-10025-6
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Zitationen: 1
Web of Science
Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 01.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0272-4324, 1572-8986
KITopen-ID: 1000118897
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Functionality by Design
Erschienen in Plasma chemistry and plasma processing
Band 40
Heft 3
Seiten 423–431
Vorab online veröffentlicht am 05.09.2019
Nachgewiesen in Scopus
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