Monocrystalline Quartz ICP Etching: Road to High-Temperature Dry Etching
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 01.2020 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0272-4324, 1572-8986 KITopen-ID: 1000118897 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erschienen in | Plasma chemistry and plasma processing |
| Verlag | Springer |
| Band | 40 |
| Heft | 3 |
| Seiten | 423–431 |
| Vorab online veröffentlicht am | 05.09.2019 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |