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Hybrid taint analysis for Java EE

Loch, F. D.; Johns, M.; Hecker, M.; Mohr, M.; Snelting, G.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1145/3341105.3373887
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Programmstrukturen und Datenorganisation (IPD)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2020
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-4503-6866-7
KITopen-ID: 1000118935
Erschienen in Proceedings of the 35th Annual ACM Symposium on Applied Computing
Veranstaltung 35th ACM/SIGAPP Symposium on Applied Computing (SAC 2020), Brünn, Tschechien, 30.03.2020 – 03.04.2020
Seiten 1716-1725
Nachgewiesen in Scopus
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