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Semiconductor-based narrow-line and high-brilliance 193-nm laser system for industrial applications

Opalevs, Dmitrijs; Scholz, Matthias; Gilfert, Christian; Vetter, Andreas 1; Kirner, Raoul; Rockstuhl, Carsten 1,2; Scharf, Toralf; Voelkel, Reinhard; Li, Ru Kang; Liu, L. J.; Wang, Xiao Yang; Leisching, Patrick; Noell, Wilfried; Chen, Chuangtian; Stuhler, Juergen
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/1000119519
Veröffentlicht am 15.06.2021
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/12.2290288
Scopus
Zitationen: 3
Dimensions
Zitationen: 3
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsmonat/-jahr 02.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5106-1508-3
ISSN: 0277-786X
KITopen-ID: 1000119519
Erschienen in Solid State Lasers XXVII: Technology and Devices. Ed.: W.A. Clarkson
Veranstaltung 27th Solid State Lasers: Technology and Devices (2018), San Francisco, CA, USA, 29.01.2018 – 01.02.2018
Verlag Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE)
Seiten Article no: 105112C
Serie Proceedings of SPIE ; 10511
Nachgewiesen in Dimensions
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