Semiconductor-based narrow-line and high-brilliance 193-nm laser system for industrial applications
Opalevs, Dmitrijs; Scholz, Matthias; Gilfert, Christian; Vetter, Andreas 1; Kirner, Raoul; Rockstuhl, Carsten
1,2; Scharf, Toralf; Voelkel, Reinhard; Li, Ru Kang; Liu, L. J.; Wang, Xiao Yang; Leisching, Patrick; Noell, Wilfried; Chen, Chuangtian; Stuhler, Juergen
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Scharf, Toralf; Voelkel, Reinhard; Li, Ru Kang; Liu, L. J.; Wang, Xiao Yang; Leisching, Patrick; Noell, Wilfried; Chen, Chuangtian; Stuhler, Juergen1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsmonat/-jahr | 02.2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-5106-1508-3 ISSN: 0277-786X KITopen-ID: 1000119519 |
| Erschienen in | Solid State Lasers XXVII: Technology and Devices. Ed.: W.A. Clarkson |
| Veranstaltung | 27th Solid State Lasers: Technology and Devices (2018), San Francisco, CA, USA, 29.01.2018 – 01.02.2018 |
| Verlag | Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE) |
| Seiten | Article no: 105112C |
| Serie | Proceedings of SPIE ; 10511 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Scopus |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |