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Semiconductor-based narrow-line and high-brilliance 193-nm laser system for industrial applications

Opalevs, Dmitrijs; Scholz, Matthias; Gilfert, Christian; Vetter, Andreas; Kirner, Raoul; Rockstuhl, Carsten; Scharf, Toralf; Voelkel, Reinhard; Li, Ru Kang; Liu, L. J.; Wang, Xiao Yang; Leisching, Patrick; Noell, Wilfried; Chen, Chuangtian; Stuhler, Juergen

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/12.2290288
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Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsmonat/-jahr 02.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-5106-1508-3
ISSN: 0277-786X
KITopen-ID: 1000119519
Erschienen in Solid State Lasers XXVII: Technology and Devices. Ed.: W.A. Clarkson
Veranstaltung 27th Solid State Lasers: Technology and Devices (2018), San Francisco, CA, USA, 29.01.2018 – 01.02.2018
Verlag SPIE, Bellingham, WA
Seiten Article no: 105112C
Serie Proceedings of SPIE ; 10511
Nachgewiesen in Scopus
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