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Development of silica based organic slurries for stereolithographic printing process

Löffler, F. B.; Bucharsky, E. C.; Schell, K. G.; Heißler, S.; Hoffmann, M. J.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jeurceramsoc.2020.05.023
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Zitationen: 3
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Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Keramische Werkstoffe und Technologien (IAM-KWT)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 10.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0955-2219, 1873-619X
KITopen-ID: 1000120772
HGF-Programm 43.22.02 (POF III, LK 01) Nanocatalysis
Erschienen in Journal of the European Ceramic Society
Verlag Elsevier
Band 40
Heft 13
Seiten 4556-4561
Nachgewiesen in Dimensions
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