KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Development of silica based organic slurries for stereolithographic printing process

Löffler, F. B.; Bucharsky, E. C.; Schell, K. G.; Heißler, S.; Hoffmann, M. J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Angewandte Materialien - Keramische Werkstoffe und Technologien (IAM-KWT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 10.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0955-2219, 1873-619X
KITopen-ID: 1000120772
Erschienen in Journal of the European Ceramic Society
Band 40
Heft 13
Seiten 4556-4561
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page