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Multi-material 3D microstructures with photochemically adaptive mechanical properties

Gernhardt, Marvin; Frisch, Hendrik; Welle, Alexander; Jones, Robert; Wegener, Martin; Blasco, Eva; Barner-Kowollik, Christopher



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/d0tc02751k
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 07.09.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2050-7526, 2050-7534
KITopen-ID: 1000123348
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Journal of materials chemistry / C
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 8
Heft 32
Seiten 10993–11000
Schlagwörter KNMF 2017-017-017289 ToF-SIMS
Nachgewiesen in Dimensions
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