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Formation and structural features of nitrogen-doped titanium dioxide thin films grown by reactive magnetron sputtering

Pustovalova, A.; Boytsova, E.; Aubakirova, D.; Bruns, M.; Tverdokhlebov, S.; Pichugin, V.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.147572
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 30.12.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0169-4332, 1873-5584
KITopen-ID: 1000123586
Erschienen in Applied surface science
Band 534
Seiten Art. Nr.: 147572
Nachgewiesen in Scopus
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