Technology of thin nitride films of Al and Nb for cryogenic quantum applications

Meckbach, J. M.; Ilin, K.; Siegel, M.

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp	Poster
Publikationsdatum	03.10.2011
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 1000124297
Veranstaltung	Workshop "Kryoelektronische Bauelemente" (KRYO 2011), Autrans, Frankreich, 02.10.2011 – 04.10.2011

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