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Technology of thin nitride films of Al and Nb for cryogenic quantum applications

Meckbach, J. M.; Ilin, K.; Siegel, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp Poster
Publikationsdatum 03.10.2011
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000124297
Veranstaltung Tagung Kryoelektronische Bauelemente (Kryo 2011), Autrans, Frankreich, 02.10.2011 – 04.10.2011
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