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Nanoscale patterning at the Si/SiO₂/graphene interface by focused He⁺ beam

Böttcher, Artur; Schwaiger, Ruth; Pazdera, Tobias M.; Exner, Daniela; Hauns, Jakob; Strelnikov, Dmitry; Lebedkin, Sergei; Gröger, Roland; Esch, Friedrich; Lechner, Barbara A.J.; Kappes, Manfred M.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/1361-6528/abb5cf
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Physikalische Chemie (IPC)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Angewandte Materialien - Werkstoff- und Biomechanik (IAM-WBM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 12.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0957-4484, 1361-6528
KITopen-ID: 1000124301
Erschienen in Nanotechnology
Band 31
Heft 50
Seiten Article no: 505302
Vorab online veröffentlicht am 06.10.2020
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