Nanoscale patterning at the Si/SiO₂/graphene interface by focused He⁺ beam
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien - Werkstoff- und Biomechanik (IAM-WBM) Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Physikalische Chemie (IPC) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsmonat/-jahr | 12.2020 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0957-4484, 1361-6528 KITopen-ID: 1000124301 |
| HGF-Programm | 43.21.04 (POF III, LK 01) Molecular Engineering |
| Erschienen in | Nanotechnology |
| Verlag | Institute of Physics Publishing Ltd (IOP Publishing Ltd) |
| Band | 31 |
| Heft | 50 |
| Seiten | Article no: 505302 |
| Vorab online veröffentlicht am | 06.10.2020 |
| Schlagwörter | 2016-016-012449 HIM |
| Nachgewiesen in | Dimensions OpenAlex |