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Effect of internal stress on short-circuit diffusion in thin films and nanolaminates: Application to Cu/W nano-multilayers

Druzhinin, Aleksandr V.; Rheingans, Bastian; Siol, Sebastian; Straumal, Boris B. 1; Janczak-Rusch, Jolanta; Jeurgens, Lars P. H.; Cancellieri, Claudia
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/1000125086
Veröffentlicht am 04.02.2025
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.145254
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Zitationen: 28
Web of Science
Zitationen: 29
Dimensions
Zitationen: 30
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 01.04.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0169-4332
KITopen-ID: 1000125086
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in Applied surface science
Verlag Elsevier
Band 508
Seiten Art. Nr.: 145254
Nachgewiesen in Web of Science
Dimensions
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