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Effect of internal stress on short-circuit diffusion in thin films and nanolaminates: Application to Cu/W nano-multilayers

Druzhinin, Aleksandr V.; Rheingans, Bastian; Siol, Sebastian; Straumal, Boris B.; Janczak-Rusch, Jolanta; Jeurgens, Lars P.H.; Cancellieri, Claudia


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.apsusc.2020.145254
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Zitationen: 5
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Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 01.04.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0169-4332
KITopen-ID: 1000125086
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in Applied surface science
Verlag Elsevier
Band 508
Seiten Art. Nr.: 145254
Nachgewiesen in Dimensions
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