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Compact Optical Polarization‐Insensitive Zoom Metalens Doublet

Wei, Yunxuan; Wang, Yuxi; Feng, Xing; Xiao, Shunyuan; Wang, Zhaokun; Hu, Tie; Hu, Manchen; Song, Jinwen; Wegener, Martin 1,2; Zhao, Ming; Xia, Jinsong; Yang, Zhenyu
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adom.202000142
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 07.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2195-1071, 2195-1071
KITopen-ID: 1000125102
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced optical materials
Verlag John Wiley and Sons
Band 8
Heft 13
Seiten Art.-Nr.: 2000142
Vorab online veröffentlicht am 04.05.2020
Nachgewiesen in Web of Science
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