Investigation of Energy Relaxation Processes in Ultra-Thin NbN Films with Frequency Domain Measurements

Rall, D.; Ilin, K.; Siegel, M.; Lemmer, U.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS) Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp	Poster
Publikationsdatum	05.10.2009
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 1000125130
Veranstaltung	Workshop "Kryoelektronische Bauelemente" (KRYO 2009), Oberhof, Deutschland, 04.10.2009 – 06.10.2009