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Investigation of Energy Relaxation Processes in Ultra-Thin NbN Films with Frequency Domain Measurements

Rall, D.; Ilin, K.; Siegel, M.; Lemmer, U.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Poster
Publikationsdatum 05.10.2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000125130
Veranstaltung Tagung Kryoelektronische Bauelemente (KRYO 2009), Oberhof, Deutschland, 04.10.2009 – 06.10.2009
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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