Trockenätzen von Niobschichten mit $CF_4$/$O_2$- und $SF_6$/$O_2$-Plasmen

Trockenätzen von Niobschichten mit $C F_{4}$ / $O_{2}$ - und $S F_{6}$ / $O_{2}$ -Plasmen

Fromknecht, Rainer

Zugehörige Institution(en) am KIT	Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik – Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik (IEGI)
Publikationstyp	Hochschulschrift
Publikationsjahr	1988
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 1000125202
Verlag	Universität Karlsruhe (TH)
Umfang	205 S.
Art der Arbeit	Dissertation
Fakultät	Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik (ETIT)
Institut	Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik – Institut für Elektrotechnische Grundlagen der Informatik (IEGI)
Prüfungsdatum	01.01.1988
Referent/Betreuer	Jutzi, W.

Seitenaufrufe: 119
seit 25.10.2020