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Influence of thickness, width and temperature on critical current density of Nb thin film structures

Il’in, K. 1; Rall, D. 1,2; Siegel, M. 1; Engel, A.; Schilling, A.; Semenov, A.; Huebers, H.-W.
1 Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Lichttechnisches Institut (LTI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.physc.2010.02.042
Scopus
Zitationen: 41
Web of Science
Zitationen: 40
Dimensions
Zitationen: 40
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 10.2010
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0921-4534
KITopen-ID: 1000125310
Erschienen in Physica / C
Verlag North-Holland Publishing
Band 470
Heft 19
Seiten 953–956
Nachgewiesen in Dimensions
Scopus
OpenAlex
Web of Science
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