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Influence of thickness, width and temperature on critical current density of Nb thin film structures

Il’in, K.; Rall, D.; Siegel, M.; Engel, A.; Schilling, A.; Semenov, A.; Huebers, H.-W.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.physc.2010.02.042
Scopus
Zitationen: 21
Web of Science
Zitationen: 19
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 10.2010
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0921-4534
KITopen-ID: 1000125310
Erschienen in Physica / C
Band 470
Heft 19
Seiten 953–956
Nachgewiesen in Scopus
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