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Combining Photodeprotection and Ligation into a Dual-Color Gated Reaction System

Alves, J.; Krappitz, T.; Feist, F.; Blinco, J. P.; Barner-Kowollik, Christopher


Verlagsausgabe §
DOI: 10.5445/IR/1000125678
Veröffentlicht am 23.08.2021
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/chem.202003546
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Zitationen: 1
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 18.12.2020
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0947-6539, 1521-3765
KITopen-ID: 1000125678
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Chemistry - a European journal
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 26
Heft 71
Seiten 16985-16989
Vorab online veröffentlicht am 24.08.2020
Nachgewiesen in Dimensions
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