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Thickness dependence of zero-temperature penetration depth of niobium thin films

Jin, B.B.; Ilin, K.S.; Gubin, A.I.; Vitusevich, S.A.; Siegel, M.; Klein, N.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikro- und Nanoelektronische Systeme (IMS)
Publikationstyp Poster
Publikationsmonat/-jahr 10.2003
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 1000125785
Veranstaltung Tagung Kryoelektronische Bauelemente (KRYO 2003), Blaubeuren, 05.10.2003 – 07.10.2003
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